描述
关键技术规格
- 控制信号：0-10V DC
- 供电电压：24V DC（±10%）
- 流量范围：5×10⁻⁶ ~ 1.25×10³ hPa・l/s（带入口过滤器）
- 压力范围：1×10⁻⁸ hPa ~ 2500 hPa（绝对压力）
- 连接法兰：DN16 ISO-KF（入口 / 出口）
- 材质：阀体不锈钢 1.4435，阀芯不锈钢 1.4301，密封件氟橡胶（FKM）
- 响应时间：关闭 3 秒，开启 4 秒
- 功耗：最大 12W
- 重量：0.75 kg
- 防护等级：IP40
- 工作温度：5-40°C；执行器烘烤温度 60°C
产品深度介绍
PFEIFFER EVR116 是德国普发真空推出的电动真空气体控制阀，专为真空系统的压力与流量精准调控设计。阀体采用不锈钢打造，密封件适配多种工艺气体，可在高真空至低压环境稳定运行。
这款阀门集成电机控制电子单元，无需额外控制器即可对接 0-10V 标准信号，适配 RVC 300 控制单元或 IF 200 接口卡。流量调节范围跨度大，兼顾微量与大流量控制，广泛应用于真空镀膜、半导体工艺、分析仪器等对真空度稳定性要求高的场景。
应用场景与行业案例
工程痛点
真空系统中，压力波动会直接影响产品质量 —— 比如镀膜厚度不均、半导体工艺参数漂移，传统手动阀精度不足、响应慢，无法满足自动化生产需求。
典型应用场景
- 半导体行业 – 真空镀膜设备控制氩气、氮气等工艺气体流量，维持腔室真空度稳定，保障镀膜均匀性，适配晶圆镀膜、光刻工艺。
- 光伏行业 – 真空层压机调节层压腔真空压力，控制 EVA 胶融化速率，避免组件气泡、分层，提升光伏组件良品率。
- 分析仪器 – 质谱 / 色谱设备精准控制载气流量，保证检测数据重复性，适配环境监测、材料分析等精密检测场景。
- 科研实验室 – 真空实验装置用于高校、科研院所的真空实验系统，调节气体流量与压力，满足不同实验条件需求。
- 工业真空 – 真空冶炼 / 热处理控制炉内保护气体流量，维持真空环境，防止工件氧化，提升热处理精度。
真实案例
某半导体晶圆厂的溅射镀膜设备，原用手动调节阀，真空压力波动 ±5%，导致镀膜厚度偏差超公差，良品率仅 85%。更换 EVR116 后，通过 0-10V 信号自动调控，压力波动控制在 ±0.5% 内，良品率提升至 98%，单月减少废品损失超 20 万元。阀门安装后稳定运行 18 个月，无故障停机。
核心卖点与差异化
- 超宽流量调节：覆盖 5×10⁻⁶~1.25×10³ hPa・l/s，兼顾微量与大流量，适配多场景切换。
- 集成控制设计：内置电机驱动与控制电路，直接对接 0-10V 信号，无需额外模块，降低采购与布线成本。
- 高真空密封性：漏率≤1×10⁻⁹ mbar・l/s，适配高真空环境，减少气体泄漏导致的能耗与污染。
- 快速响应：开关响应仅 3-4 秒，压力调节无滞后，适配动态工艺场景。
- 严苛材质适配：不锈钢阀体 + 氟橡胶密封，兼容惰性气体、轻度腐蚀性气体，使用寿命长。
- 质保与测试：全新原装，出厂全功能测试，提供 12 个月质保，支持测试报告核验。
