描述
关键技术规格
| 参数项 | 参数值 |
|---|---|
| 完整型号 | MYKROLIS FC-280SAV |
| 产品类型 | 热式气体质量流量控制器 MFC |
| 测量精度 | ±1.0% 满量程 |
| 重复性 | ±0.2% 满量程 |
| 响应稳定时间 | ≤1 s（达到设定值 2% 误差带） |
| 信号规格 | 0~5V 模拟设定点与流量输出 |
| 密封形式 | 弹性密封（Elastomer Seal） |
| 量程范围 | N₂等效：10 sccm ~ 30 slpm，具体以型号后缀为准 |
| 供电电压 | ±15 VDC |
| 工作温度 | 10 ℃ ~ 45 ℃ |
| 接液材质 | 316L 不锈钢 |
| 适用气体 | 氮气、氩气、氧气等惰性及工艺气体 |
产品深度介绍
MYKROLIS FC-280SAV 属于 FC-280SA 系列热式气体质量流量控制器，前身源自 Tylan 产品线，多用于半导体工艺设备。依靠热式传感原理，直接测量气体质量流量，不受压力、温度波动干扰。
该型号采用弹性密封结构，成本适中，响应速度快，适配旧款刻蚀、沉积设备的气体管路。模拟 0-5V 信号输出，可直接对接老设备工控板，不用额外协议转换模块，减少改造工作量。
应用场景与行业案例
半导体老旧机台维护最头疼的就是 MFC 故障停机。这类老设备大多配套 FC-280SA 系列，原厂早已停产，一旦流量控制器失效，整套工艺腔体无法正常供气，晶圆批次直接报废。
典型应用场景:
- 半导体制造 – 刻蚀机工艺气控制 控制 Ar、N₂等载气流量，维持刻蚀腔体气体配比。MFC 漂移或失效会直接造成晶圆良率下降。
- 薄膜沉积设备 – PVD/CVD 辅助气体调控 腔体吹扫、载气输送，要求流量重复性稳定，保证薄膜厚度一致性。
- 科研真空平台 – 实验室气体配比系统 高校、研究所真空实验，小流量精密配气，对成本敏感，选用弹性密封 MFC。
- 光伏设备 – 镀膜工艺气体供给 旧款镀膜机的工艺气体控制，替换老化 MFC，恢复设备产能。
案例：晶圆厂刻蚀机抢修 去年下半年，长三角一家晶圆代工厂的旧刻蚀设备报警，腔体氮气流量失控，确认 FC-280SAV 内部传感器漂移。 联系原厂，该型号早已停产品，无排产计划，原厂替代型号需要改造设备控制程序，至少停机一周。 设备停机一天，会废掉多批在制晶圆，损失可观。采购紧急寻找现货备件，我们仓库有库存。 入库全检、标定流量后当天发出，48 小时送到洁净车间。设备工程师在洁净台完成更换，通入氮气校准零点与满量程，流量闭环稳定，刻蚀工艺恢复。
